We voeren nauwkeurige optische simulaties uit om de efficiëntie van onze UV-, LED UV- en excimersystemen te maximaliseren. We optimaliseren de geometrie van de reflectoren met behulp van ultramoderne UV-apparatuur. De UV-lamp en reflector worden als 3D-modellen in de simulatiesoftware geïmporteerd. Statische ontvangvlakken, die representatieve oppervlakken zijn voor UV-droging, worden op verschillende afstanden gesimuleerd. De lampas en de typische afstanden tot het druk- of coatingmateriaal zijn hierbij doorslaggevend.
Verschillende reflectorgeometrieën beïnvloeden specifiek het straaltraject: Elliptische reflectoren focussen de straling, terwijl parabolische reflectoren een brede verspreiding van de straling genereren. Het stralingsvermogen wordt per gebied gemeten en in 3D-diagrammen gevisualiseerd als watt per vierkante millimeter.
De homogeniteit van de straling en de afstandskarakteristieken worden nauwkeurig berekend met ray tracing en geoptimaliseerd voor zeer efficiënte UV-aggregaten. Deze simulaties kunnen ook gebruikt worden om het aantal systemen en hun posities te bepalen om de vereiste dosis op het te drogen product te garanderen. Vooral voor UV-droogtoepassingen op 3D-onderdelen helpen deze simulaties om de ideale positie van het systeem te bepalen en schaduwzones te vermijden.
In een verdere ontwikkelingsstap wordt de thermodynamica geoptimaliseerd. Het aggregaat wordt wederom als 3D-model in het programma ingelezen om het snelheidsprofiel van de stromende lucht en de warmtebelasting van lucht, reflectoren en behuizingscomponenten langs het UV-aggregaat te simuleren. Hiermee kunnen kritische zones herkend en dynamisch geoptimaliseerd worden. Door middel van raytracing en warmtesimulatie worden ontwikkelingstijden aanzienlijk verkort, aangezien het ontwerp van zowel reflectoren als behuizingscomponenten direct na een optimalisatieronde in het 3D CAD-systeem aangepast kan worden. Met behulp van deze simulatieprogramma's worden kostbare testconstructies in het laboratorium tot een minimum gereduceerd.
